半導体製造装置市場において、東京エレクトロンは米アプライド・マテリアルズ（AMAT）、蘭ASML、米ラムリサーチと並ぶ世界トップ4の一角に位置しています。その最大の強みは、ウェーハの塗布・現像を行う「コータ・デベロッパ」分野において世界シェア約90％（EUV露光向けではほぼ独占）という圧倒的な支配力を誇る点にあります。
露光装置で独走するASMLと極めて緊密な共同開発体制を敷いており、最先端微細化プロセスにおいて「東京エレクトロンの装置なしには製造ラインが成立しない」と言わしめるほどの存在感を確立しています。さらに、微細パターンの溝を掘るエッチング装置や、ウェーハ洗浄装置でも世界トップクラスのシェアを保持しており、主要プロセスを一貫してカバーできる製品群の広さが競合に対する強烈な参入障壁となっています。
一方で弱みとしては、リソグラフィ（露光）そのものや一部の成膜プロセスで欧米巨頭の後塵を拝している点、ならびに業績が半導体メーカーの設備投資意欲に直結するシクリカルな性質を完全に排除できない点が挙げられます。
